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per la riduzione
degli
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presenti
nei

luoghi di lavoro

(AVVISO)
   
LA SOLUZIONE ITALIANA
    con
particolare
 riferimento
alle emissioni
di stampanti
e

fotocopiatori
laser

(AVVISO)
 
 

documentazione utile

 
 
FONTE ANNO ARGOMENTO  
ISPESL 2008 DATI STATISTICI SU ESPOSIZIONE AD AGENTI CANCEROGENI IN ITALIA
  Il rischio cancerogeno e mutageno CLASSIFICAZIONE SOSTANZE
ECMA 2009 Determinatione delle emissioni chimiche prodotte dalle apparecchiature elettroniche studio commissionato dai produttori
AMA-MCS ONLUS 2005 Campagna Nazionale Riconoscimento Sensibilità Chimica Multipla (MCS)
PRESIDENZA DEL CONSIGLIO 2006 NANOSCIENZE E NANOTECNOLOGIE
    2002  DECRETO LEGISLATIVO 2 febbraio 2002, n.25   
REGIONE PIEMONTE 2002 D.Lgs. 2 febbraio 2002, n. 25 - Modello applicativo proposto dalla Regione Piemonte per la Valutazione del Rischio Chimico
Regione VENETO  2002  D.Lgs. 2 febbraio 2002, n. 25 - Modello applicativo proposto dalla Regione VENETO  per la Valutazione del Rischio Chimico 
Rolando Dubini   Articolo 2087 del codice civile L’obbligo del datore di lavoro di attenersi al principio della massima sicurezza tecnologicamente fattibile 
ISPESL  2006  RISCHIO OZONO DA APPARECCHIATURE DI FOTORIPRODUZIONE (A CURA DEL LABORATORIO DI CHIMICA TOSSICOLOGICA DELL'ISPESL)
INAIL  2005  GLI AGENTI CHIMICI MUTAGENI 
ISPESL  2011  L'esposizione a nanomateriali ingegnerizzati e gli effetti sulla salute e sicurezza nei luoghi di lavoro 
ISPESL  2009  Indicazioni operative per la corretta applicazione del Titolo VIII del D.Lgs. 81/2009 sulla prevenzione e protezione dai rischi di esposizione ad agenti fisici 
min lavoro 2013 testo unico 81 sicurezza sul lavoro
   
   
   
   
   
   
   
   
   
   
studi di centri di ricerca internazionali 
1995 Fraunhofer Institute of Toxicology and Aerosol Research, Hanover, Germany-Neoplastic lung lesions in rat after chronic exposure to crystalline silica 
Oxidative stress contributes to silica nanoparticle-induced cytotoxicity in human embryonic kidney cells